建國科技大學 日間部 97 學年度第 1 學期 課程綱要表
授課班級： 日間部 四技機械四A        教師： 梁元彰
科目名稱： 半導體製造及設備        時數： 3
教材名稱： 半導體製造技術        著 者： M.Quirk &J.Serda
出版書局： 滄海書局
主要參考資料：(請註明書名、著者、出版書局)

 

 評分方式：
評分比例：

先修科目或先備能力： 基本物理與化學知識

教學目標：
1.知識： 培養學生半導體製造基本觀念
2.技能： 訓練學生設計相關元件製造能力
3.態度： 嚴謹的課程學習方式
4.其他： 實例搭配課程教學
教學方式：

教材大網：

單    元    主    題 內    容    綱    要 教學週數 備    註
IC製造概論 1. 導言
2. IC製造流程		 1 　
氧化 1. 熱氧化生長
2. 爐管設備
3. 氧化製程
4. 品質量測		 3 　
沉積 1. PVD
2. CVD
3. EPI 工程		 3 　
金屬化 1. 金屬的形式
2. 金屬沉積系統
3. 金屬化摘要		 2 含期中考
微影
蝕刻		 1. 氣相塗底與軟烤
2. 對準與曝光
3. 顯影與先進雕像
4. 乾與濕式蝕刻		 5 　
離子植入 1.離子植入機
2.在積體化製程之趨勢		 2 　
化學機械平坦化 1.CMP的應用
2.CMP的品質量測		 2 含期末考
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建國科技大學 日間部 97 學年度第 1 學期 教學預定進度表
科       目： 半導體製造及設備       授 課 班 級： 日間部 四技機械四A
任 課 教 師： 梁元彰 擬定進度教師: 梁元彰
教科書 名稱： 半導體製造技術 作       者： M.Quirk &J.Serda
出 版 書 局： 滄海書局
週次
月日
時數
網路
時數
 授   課   內   容   要   項 備  註
1
 9月8日
9月14日		 3 0 課程簡介 9/10開學
2
 9月15日
9月21日		 3 0 氧化(I) 　
3
 9月22日
9月28日		 3 0 氧化(II) 　
4
 9月29日
10月5日		 3 0 氧化(III)&沈積(I) 　
5
 10月6日
10月12日		 3 0 沈積(II) 10/10國慶日放假
6
 10月13日
10月19日		 3 0 沈積(III) 　
7
 10月20日
10月26日		 3 0 金屬化(I) 　
8
 10月27日
11月2日		 3 0 金屬化(II) 　
9
 11月3日
11月9日		 3 0 期中考 期中考試
10
 11月10日
11月16日		 3 0 金屬化(III) 　
11
 11月17日
11月23日		 3 0 微影蝕刻(I) 　
12
 11月24日
11月30日		 3 0 微影蝕刻(II) 　
13
 12月1日
12月7日		 3 0 微影蝕刻(III) 　
14
 12月8日
12月14日		 3 0 離子植入(I) 　
15
 12月15日
12月21日		 3 0 離子植入(II) 　
16
 12月22日
12月28日		 3 0 離子植入(III)&CMP(I) 　
17
 12月29日
1月4日		 3 0 CMP(II) 98/1/1開國紀念日放假
18
 1月5日
1月11日		 3 0 期末考 期末考試
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